①天津金相拋光機的技術(shù)基礎(chǔ)要求

拋光操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到ZUI大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層。同時也要使拋光損傷層不會影響ZUI終觀察到的組織，即不會造成假組織。這兩個要求是矛盾的。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深，后者要求使用很細的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。解決這個矛盾的很好的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。先是粗拋，目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有ZUI大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應當盡可能?。黄浯问蔷珤仯ɑ蚍Q終拋），其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到ZUI小。（這段的描述很到位，只可惜，后面的水準陡降。）

②天津金相拋光機使用技巧

拋光時，試樣磨面與拋光盤應平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時還應使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。

天津金相拋光機濕度太大會減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時，由于摩擦生熱會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會拋傷表面。

③天津金相拋光機使用轉(zhuǎn)述控制

為了達到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，不要超過500r/min；拋光時間應當比去掉劃痕所需的時間長些，因為還要去掉變形層。

粗拋后磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當提高，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。

變頻調(diào)速已被理論和實踐證明是"節(jié)能明顯，功能豐富，天津金相拋光機性能穩(wěn)定"的調(diào)速裝置。根據(jù)不同的材料，拋光時需要選擇合適的速度，得到好的效果。

為了在很短的時間內(nèi)達到合適的試樣制備效果，要采用合適的設(shè)備和正確的制備方法。認真地選用設(shè)備和輔助材料，以確保制樣的每一步都達到預定目標，并能在消除前幾步所造的劃痕和變形的同時，僅產(chǎn)生很少的新劃痕和變形。